氮化镓（GaN）MOCVD系统（图片高清下载可采用点击鼠标右键【图片另存为...】或【保存到手机】等保存方式。欢迎下载）
厂家：NuFlare Technology, Inc.
产品型号：EPIREVO G8

GaN 6寸/8寸外延炉

EPIREVO G8是日本株式会社东芝的子公司纽富莱（NuFlare）的主要产品之一。EPIREVO G8通过在在200㎜Si衬底上高质量的高速成膜，从而降低功率器件和RF器件成本的MOCVD装置，为实现低碳社会做出贡献。
高生产性
GaN膜能够达到9µm/hour以上的高速生长
能够达到200℃/minute以上的高速升温

高品质
200mm晶片面内2度以内的**温度分布

低成本
TMG可以达到20%以上的高利用率
In-Situ清洁功能带来的高生产效率